Kimyasal Peeling

Kimyasal Peeling

Kimyasal peeling, bir veya birkaç kimyasal ajanın deriye uygulanması ile deride çeşitli derinliklerde kontrollü hasar oluşturulması ve sağlıklı bir derinin ortaya çıkmasını hedefleyen uygulama yöntemidir. Kimyasal peelingte amaç, deri tabakalarında istenilen derinliğe kadar hasar oluşturmak ve rejenerasyon sırasında yara iyileşmesinin avantajlarından yararlanarak çeşitli lezyonların tedavisini sağlamaktır.

Kimyasal peeling deriyi canlandırmak, gençleştirmek, sivilce ve izlerini, ciltte istenmeyen lekeleri gidermek, görünüşünü iyileştirmek için cildin yüzeyel tabakaların ayrılmasına ve soyulmasına neden olan bazı solüsyonların uygulamasıdır. Peeling uygulaması cildin yıpranmış, tazeliğini ve parlaklığını kaybetmiş üst tabakasının soyulmasını ve dökülmesini sağlayarak ve derinin daha alt tabakalarında yeniden bir yapılanma sürecini başlatıp; kollajen sentezlenmesini uyararak daha genç ve sağlıklı homojen bir derinin ortaya çıkmasını sağlanabilir. Kimyasal peeling uygulaması sonucunda cildin üst kısmındaki hasarlı tabaka soyulur, hasar görmemiş canlı tabaka ortaya çıkar.

Soru Sor

E-Posta Hesabınız yayınlanmayacak.